半導體（tǐ）行業廢氣處理
半導體行業廢氣主要指的是（shì）電解質（zhì）、矽、金屬、化學物質和有機物質等的（de）廢氣。半導體工藝廢氣中的電解質廢氣主要來源於表麵處理過程的清（qīng）洗工序，而矽、金屬和化學物質廢氣主要來源（yuán）於（yú）製造工藝中的燒結（jié）、熔體（tǐ）澆注、清洗、蒸鍍和磷化等工序。有機物質廢（fèi）氣主要來源於製造過程（chéng）中使用的有機溶劑和有機物質的（de）燃燒反應。
半導體廢氣處理方法
目前，半導體行業有機廢氣處理方法主要以下幾種方法：1、活性炭吸附法（fǎ）；2、燃燒法；3、化學法。酸（suān）堿性廢氣可以選用洗滌塔、噴淋（lín）塔（tǎ）、吸收塔。
活性炭吸附是利用（yòng）活性炭的吸附性質，通過（guò）接觸吸附（fù），使廢氣中的有害物質（zhì）與活（huó）性炭表麵（miàn）結合，從而達到淨化廢氣的目的（de）。燃燒法是將廢氣中的有害物質通過燃燒的方式銷毀，減少對環境的汙染。化學吸收（shōu）是利（lì）用吸收劑的吸收性質，使廢氣中的有害物質（zhì）與吸收劑發生化學反應或物理反應，使其轉化為無害物質，從而淨化廢氣（qì）。
目前，半導體行業廢氣排放標準不同步，我國半導體（tǐ）行業廢氣排放標準主要以《半導體工業大氣汙染物排放標準》為主，但是這個標準的（de）主要適用（yòng）對象是生產芯片的企業，而且許多地區都有（yǒu）自己的（de）排放標準，所（suǒ）以最終需要參考當地環保要求。
隨（suí）著半導體行業的不斷進步，半導體行業的廢氣處理技（jì）術也在不斷（duàn）發（fā）展。根據不同的工藝流程，廢氣處理設（shè）備也會有所不同，不僅可以滿足環保排放（fàng）標準，還能大（dà）大降低企業處理（lǐ）成（chéng）本。
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